欧亿体育欧亿体育生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。
国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。其中荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%。
中国光刻机上市公司有智光电气、飞凯材料、南大光电和蓝英装备。
文章整合自飞秒生活、antpedia网、南方财富网
电子发烧友网报道（文/周凯扬）尽管ASML作为目前占据主导地位的
一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他
一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他
们近况如何？ /
为什么这么难呢？ 据说越小的东西，建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写
是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影
技术，具有效率高、无损伤等优点。 EUV
。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV
光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的
制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV
光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩模传输光束。
设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的
就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层
是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的
是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
作为芯片产业制造中不可缺少的设备，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出
的主要核心部件主要分为两个部分：分别是对准系统和紫外光源。
作为芯片的核心制造设备，也是当前最复杂的精密仪器之一。其实
不仅可以用于芯片生产，还可以用于封装和用于LED制造领域。
的芯片制作工艺目前比较落后，也没有优秀的国产
电子发烧友网报道（文/周凯扬）作为近乎垄断的
已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV
的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了
没有任何一个国家的人比中国人更想造出顶级
，无论一个人做错了什么都可以原谅。 因为
，这种高精密芯片制造设备，是当前中国半导体的软肋。2002年，
取得了哪些重大突破 /
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型
，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该
，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
DPP-EUV光源，但离商用EUV所必须的250瓦
镜头系统非常难，镜头系统不只是光学技术，还有加工的工艺要求，以及建立系统集成平台。中国
是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的
的核心原理就是一个透镜组，在精度上首先咱们
是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的
微影技术是通过什么实现的 /
以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV
产能如何？ ● 晶圆为什么是圆的？ ● 不同制程的芯片之间
何区别？ ● 什么是逻辑芯片，逻辑芯片又包括哪些？ ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV
设备就必不可少。那么，中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些类型的
问题的讨论，因为截至目前，ASML仍然是全球最领先的
就不多说了，ASML每年都能卖出去很多台，而在更先进的EUV
方面，ASML更是占据了绝对垄断的地位。
ASML 2020 年财报数据显示，去年向中国市场共交付约140台
，大家已经并不陌生了，不会首先产生疑问，这是什么东西？是
系统集成和整体架构的核心企业，自然成了欧美自家的小棉袄，顺利赶上了欧美EUV技术研究发展的风口，投资德国卡尔蔡司，收购美国Cymer光源。集成世界各国顶尖科技的EUV
，半导体或遭断链危机，摩尔定律将停止，人类也就无法设计、制造和封装硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麦）的荷兰公司市场占有率达80%，是行业的绝对
不到20台。 围绕芯片制造要用到的关键设备
吗？为何三星高管最近跑去荷兰拜访ASML
还能卖给中国吗？ /
；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助
精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，
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版、以及各类aligner（stepper不收）。提供--各类直写
工艺主、辅材。2、提供精密机加工以及激光切割
本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把
就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高
的发展情况 /
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想知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点，以Intel为例，2000年
的是180nm，而现在已经是10nm了，其实
多难搞？美国曾有一位工程师感叹道：ASML的
，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV
举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
中科院联合多个科技公司研发出了一款22nm分辨率的
封锁，胜利女神在招手！在我国半导体行业内，一直存在着一个重大问题，那就是我国国产
研发成为现实可能。 存储器国产化为我国刻蚀
带来机遇。 首先，存储器并不需要最先进的制程，现有的 193nm 浸没式
已经足够，短期内不会出现因 EUV 的应用而减少刻蚀工艺的情况。以
是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实
上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的
中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端
呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是
，大家就会想到ASML。因为在芯片生产中，
MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)
MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)供应。型号：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端
技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的
，这已经十分不容易了，这可是0的突破。那么为什么
镜片，除了二手配件还可以供应全新产品，型号如下：1、L5 BN9-5032-0002、L6 BN9-5033-0003、BN9-5015-0004、BN9-5021-0005
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV
的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV
无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV
的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些
的分析介绍 /
相信大家首先想到的是荷兰，确实如此，荷兰
之所以这么出名，很大程度是由于荷兰在这方面下了很大的功夫，比如技术投入、研发团队以及资金投入都是其他国家难以比拟的。
的作用，顾名思义，就是“用光来雕刻的机器”。是用来实现上面说到的“光线侵蚀
多大，在这时候就体现出来了。即便是自己能够研发出芯片了，但是没有
还是不能批量生产。并且就现在来说国际上的
咱们国家大陆地区还是买不到的，似乎是在进行技术封锁，这也就苦了华为这样能够自主研发芯片的公司。
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本帖最后由 万仞山 于 2018-9-6 20:54 编辑 求购ULTRATECH
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的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国
的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰
水平进展现在仍然与国外存在差距以及国内国产
水平进展和前景分析 /
结构组成及工作原理 /
`出售CANON MPA600-FA、CANON MPA500-FAb 、PE M600HT 投影式
才能造出好的芯片，才能有好的数控系统，但是矛盾在这儿，没有高精机床，怎么能生产出好的
搞定PCB铺铜，这篇就够了！（附设计要点详解）
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